גורמים המשפיעים על ערכי RF בכרומטוגרפיה של שכבה דקה

במהלך כרומטוגרפיה של שכבה דקה, טכנאי מניח כתמים של תערובת כימית על גבי צלחת שטוחה המצופה בשכבת חומר סופג, ואז יושב את החלק התחתון של הצלחת בממיס. כאשר ממס נע במעלה הצלחת, כימיקלים בתערובת עולים איתה בקצב שונה, ולכן הם נפרדים. בדיקה זו קובעת אילו כימיקלים נמצאים בתערובת על ידי השוואת שיעורי הנסיעה של הלא ידועים לסטנדרטים ידועים. עם זאת, התוצאות יכולות להיות מושפעות מגורמים רבים.

TL; DR (ארוך מדי; לא קרא)

ערכי גורם השמירה בכרומטוגרפיית שכבה דקה מושפעים מהספיגה, ממס, צלחת הכרומטוגרפיה עצמה, טכניקת יישום וטמפרטורת הממס והצלחת.

גורם השמירה עבור חומר כימי במהלך כרומטוגרפיה של שכבה דקה הוא מדד עד כמה הוא נע במעלה הצלחת בתגובה לתנועת הממס. מכיוון שהתנועה המוחלטת של הכימיקל תלויה כמה רחוק הממס עובר, אתה מחשב ערכי גורם השמירה ביחס למידת תנועת הממס. גורם השמירה עבור חומר כימי הוא המרחק האנכי שהכימיקל עובר מהמקום בו היה במקור הוחל על הצלחת, חלקי המרחק שעבר הממיס - נמדד מאותה התחלה נְקוּדָה.

לוח הכרומטוגרפיה השכבה הדקה עצמה יכול להשפיע על ערך גורם השמירה המתקבל עבור חומר כימי מסוים. ניתן לכסות את לוחות הכרומטוגרפיה בשכבה דקה במגוון מוצקים סופגים; לרוב סיליקה או אלומינה. מכיוון שגורם ההחזקה מבוסס על הזיקה היחסית של הכימיקל לסופג בהשוואה לממס, שינוי הספיגה יכול לשנות מאוד את גורם ההחזקה. כמו כן, עובי ואחידות שכבת הסופג יכולים להשתנות בין צלחת לצלחת, במיוחד אם הם מיוצרים בעבודת יד. גורמים אלה יכולים גם לשנות את ערך גורם השמירה עבור כימיקלים.

מכיוון שהממס נושא את הכימיקל מעל הצלחת, לממיס המסוים המשמש תהיה גם השפעה משמעותית על ערך גורם השמירה עבור הכימיקל. ממס שיש לו אינטראקציה חזקה יותר עבור כימיקל מסוים יתגבר ביתר קלות על כל אחד מהם זיקה של הכימיקל לשכבה הסופגת, ולהרחיק את הכימיקל בתקופה נתונה של זְמַן. גם לתערובות של ממסים יכולות להיות השפעות שונות בהתאם לשיעור של כל ממס.

ישנם כמה גורמים אחרים אשר עשויים להשפיע על גורם ההחזקה במקרים מסוימים. הטמפרטורה של הממס והצלחת עשויה לבצע שינויים קלים, שכן, למשל, הממס יכול לעתים קרובות להמיס טוב יותר את הכימיקלים שהוא מעביר בטמפרטורות גבוהות יותר. הטכניקה של הטכנאי בהחלת המדגם על הצלחת עשויה לשנות גם את גורם ההחזקה. מריחת מדגם רב מדי עלולה לגרום לפסים גדולים ומפוזרים של כימיקל לנוע במעלה הצלחת, מה שמקשה על מדידת המדויק של המרחק שהועבר הכימיקל.