प्रयोगशाला रसायनों को अक्सर उन स्थानों पर भंडारण की आवश्यकता होती है जो उन्हें प्रयोगशाला के वातावरण से अलग रखते हैं। रसायन हानिकारक या खतरनाक धुएं को भी छोड़ सकते हैं। जब इन रसायनों का उपयोग या भंडारण किया जाता है, तो उन्हें धूआं हुड में रहना चाहिए। धूआं हुड के लिए एक महत्वपूर्ण विनिर्देश इसकी कैप्चर वेग है। धूआं हुड कैप्चर वेग वह गति है जिस पर धुएं को हुड में जाने और कमरे से बाहर निकलने के लिए हुड खोलने के सामने एक विशिष्ट दूरी पर चलना चाहिए। यह सुनिश्चित करता है कि प्रयोगशाला में कोई अन्य वायु धाराएं धुएं को प्रयोगशाला के अन्य भागों में पुनर्निर्देशित नहीं करती हैं। इसका मतलब है कि हुड के सामने दी गई दूरी पर हवा धूआं हुड वेग से आगे बढ़ रही होगी। हुड के विन्यास के आधार पर धूआं हुड वेग की गणना के लिए अलग-अलग समीकरण हैं।
हुड के उद्घाटन के क्षेत्र की गणना करें, यह मानते हुए कि आपका हुड आकार में गोलाकार है। इस समीकरण का प्रयोग करें: क्षेत्र = pi x हुड-त्रिज्या^2। आपका हुड त्रिज्या हुड व्यास का 1/2 गोलाकार है। पाई लगभग 3.14 के बराबर है। उदाहरण के लिए, यदि आपके हुड का व्यास 16 इंच है, तो आपका समीकरण pi x 8^2 = 200.96 होगा। इस हुड का क्षेत्रफल 201 वर्ग इंच है। हुड के अन्य विन्यास और आकार के लिए एक अलग समीकरण की आवश्यकता होगी।
समीकरण Q = VH x (10 D^2 + A) का उपयोग करके किसी विशेष प्रदूषक के लिए कैप्चर वेग निर्धारित करें। "ए" धूआं हुड क्षेत्र का प्रतिनिधित्व करता है; "डी" हुड से दूरी है जहां प्रदूषक छोड़ा जाता है (मान लीजिए 12 इंच); एक प्रदूषक (300 फीट प्रति मिनट) के लिए वीएच को हुड कैप्चर वेग की सिफारिश की जाती है; और क्यू वॉल्यूमेट्रिक प्रवाह दर है। क्यू के लिए हल करना हुड खोलने से दूरी डी इंच के भीतर एक कैप्चर वेग प्राप्त करने के लिए आवश्यक वॉल्यूमेट्रिक प्रवाह दर निर्दिष्ट करता है। वीएच के लिए हल करने के लिए समीकरण को पुनर्व्यवस्थित करें और आप हुड खोलने से डी इंच पर अपने हुड के लिए कैप्चर वेग निर्धारित कर सकते हैं। वीएच = क्यू / (10 डी ^ 2 + ए) समीकरण में प्लग किए गए चर के साथ एक कैप्चर वेग उत्पन्न करता है, आपके हुड के लिए वीएच, इस उदाहरण में मानों के लिए 1640 से विभाजित निकास की वॉल्यूमेट्रिक प्रवाह दर है। वीएच का मान हुड के आकार पर निर्भर नहीं है बल्कि केवल विशेष प्रदूषक पर निर्भर करता है। हुड की वॉल्यूमेट्रिक प्रवाह दर प्रयोगशाला में प्रदूषकों के लिए हुड की थकाऊ क्षमता का निर्धारण करेगी।
याद रखें कि धूआं हुड के उद्घाटन के केवल सतह क्षेत्र का संदूषकों के कैप्चर वेग पर कोई प्रभाव पड़ता है। जैसे ही आप धूआं हुड की ढाल को कम करते हैं, धूआं हुड वेग खुले हुड के क्षेत्र के सीधे अनुपात में बढ़ता है। ध्यान दें कि हुड का वॉल्यूमेट्रिक वायु प्रवाह हुड खोलने के क्षेत्र से संबंधित है, न कि संदूषक के कैप्चर वेग से। इस्तेमाल किया गया समीकरण इसे दिखाता है: क्यू = वीएच एक्स (10 डी ^ 2 + ए)। केवल एक छोटा, ऊर्ध्वाधर उद्घाटन छोड़ने के लिए धूआं हुड के दरवाजे को कम करने से हुड के प्रकार को निकास हुड से स्लॉट हुड में बदल दिया जाता है। स्लॉट हुड एग्जॉस्ट हुड से इस मायने में भिन्न होते हैं कि उनका ऊर्ध्वाधर-से-क्षैतिज अनुपात 0.2 या उससे कम होता है।